【中国求人】【上海市】中国系先端半導体材料専門企業・研究開発エキスパート募集！ 217429[005]
業種
メーカー
場所
上海市
給料
【予定月収】 50000 ～ 70000元/ 税込
諸手当：1300元/月
変動ボーナスあり（平均約3ヶ月分）
就労ビザ：有
※下記は候補者の希望により相談可※
海外旅行保険
住宅
一時帰国チケット/回数
一時帰国休暇
諸手当：1300元/月
変動ボーナスあり（平均約3ヶ月分）
就労ビザ：有
※下記は候補者の希望により相談可※
海外旅行保険
住宅
一時帰国チケット/回数
一時帰国休暇
仕事内容
【事業内容】
自主イノベーションを根幹に、研究開発・生産・販売・技術サービスを一体化した先端半導体材料専門企業である。同社はチップ製造プロセス向け最適な材料ソリューションに特化し、化学機械研磨液（CMP スラリー）・機能性ウェットケミカル・めっき液および添加剤、さらに主要原材料の自製化を軸とした「3+1」技術プラットフォームを構築し、全製品ラインをカバーしている。
CMP研磨液の細分化分野（例：Copper Barrier、Serial Oxideなど）に焦点を当て、設計からイノベーションに至る全プロセスの研究開発を担当。
• 配合設計・開発：研磨液新製品の配合開発を主導し、一部プロセスの最適化を推進する。
• 製品改良・性能向上：顧客先の技術課題を解決し、顧客が要求する主要性能指標を継続的に改善する。
• 一貫した技術移管支援：主に実験室レベルでの配合開発を担当し、後続の試作・量産フェーズに向けて技術的な助言を行う
自主イノベーションを根幹に、研究開発・生産・販売・技術サービスを一体化した先端半導体材料専門企業である。同社はチップ製造プロセス向け最適な材料ソリューションに特化し、化学機械研磨液（CMP スラリー）・機能性ウェットケミカル・めっき液および添加剤、さらに主要原材料の自製化を軸とした「3+1」技術プラットフォームを構築し、全製品ラインをカバーしている。
CMP研磨液の細分化分野（例：Copper Barrier、Serial Oxideなど）に焦点を当て、設計からイノベーションに至る全プロセスの研究開発を担当。
• 配合設計・開発：研磨液新製品の配合開発を主導し、一部プロセスの最適化を推進する。
• 製品改良・性能向上：顧客先の技術課題を解決し、顧客が要求する主要性能指標を継続的に改善する。
• 一貫した技術移管支援：主に実験室レベルでの配合開発を担当し、後続の試作・量産フェーズに向けて技術的な助言を行う
応募資格
【必要業務経験】
1博士号以上の学歴を有し、化学、材料、化学工学等の専攻出身であること（マッチした経験が非常に豊富な方は修士卒でも検討可）
2.半導体 CMP 研磨液の研究開発業務経験が10 年以上であること
3.研磨液の主要性能評価手法を熟知し、DOE 及びデータ分析スキルを保有すること
【歓迎要件】
1.論理的思考・クリティカルシンキングに長け、課題に対し多角的な解決策を提案可能。根本原因分析を推進し、運用ルールや解析モデルを構築できる方
2.細部や技術トレンドに意識を払い、体系的に問題解決を実施できる方
年齢：40代～60代が活躍中
語学：中国語不問
1博士号以上の学歴を有し、化学、材料、化学工学等の専攻出身であること（マッチした経験が非常に豊富な方は修士卒でも検討可）
2.半導体 CMP 研磨液の研究開発業務経験が10 年以上であること
3.研磨液の主要性能評価手法を熟知し、DOE 及びデータ分析スキルを保有すること
【歓迎要件】
1.論理的思考・クリティカルシンキングに長け、課題に対し多角的な解決策を提案可能。根本原因分析を推進し、運用ルールや解析モデルを構築できる方
2.細部や技術トレンドに意識を払い、体系的に問題解決を実施できる方
年齢：40代～60代が活躍中
語学：中国語不問
求人番号
CHN26-06-12PS2
