【中国求人】【上海市】 中国系半導体材料メーカーよりナノ粒子開発エキスパート（CMPスラリー用研磨材）！ 219465[005]
業種
メーカー
場所
上海市
給料
【予定月収】 50000 ～ 70000元（税込） （ご経験により応相談）
月額1300元の手当
変動ボーナス（平均約3ヶ月分）
※下記は候補者の希望により相談可※
海外旅行保険
住宅
一時帰国チケット
一時帰国休暇
月額1300元の手当
変動ボーナス（平均約3ヶ月分）
※下記は候補者の希望により相談可※
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仕事内容
自主イノベーションを根幹に、研究開発・生産・販売・技術サービスを一体化した先端半導体材料専門企業である。同社はチップ製造プロセス向け最適な材料ソリューションに特化し、化学機械研磨液（CMP スラリー）・機能性ウェットケミカル・めっき液および添加剤、さらに主要原材料の自製化を軸とした「3+1」技術プラットフォームを構築し、全製品ラインをカバーしている。
＜仕事内容＞
CMPスラリー用無機ナノ粒子（研磨材）の設計・合成・評価
酸化セリウム（CeO₂）、酸化シリカ（SiO₂）、酸化アルミナ（Al₂O₃）などのナノ粒子開発
粒径・粒度分布・表面特性・分散性などの最適化
ラボ開発からパイロット、量産へのスケールアップ開発
生産プロセスの改善および量産条件の最適化
品質不良や歩留まり低下などの原因解析（Root Cause Analysis）および改善
次世代CMP材料の研究開発および新製品開発
＜仕事内容＞
CMPスラリー用無機ナノ粒子（研磨材）の設計・合成・評価
酸化セリウム（CeO₂）、酸化シリカ（SiO₂）、酸化アルミナ（Al₂O₃）などのナノ粒子開発
粒径・粒度分布・表面特性・分散性などの最適化
ラボ開発からパイロット、量産へのスケールアップ開発
生産プロセスの改善および量産条件の最適化
品質不良や歩留まり低下などの原因解析（Root Cause Analysis）および改善
次世代CMP材料の研究開発および新製品開発
応募資格
◆必須条件
・材料工学、化学、無機化学、ナノ材料などの博士号取得者
（実務経験が豊富な方は修士・学士も相談可能）
・半導体CMP材料またはCMPスラリーに関する研究開発経験5年以上
・無機ナノ粒子の合成・開発経験
・以下いずれかの材料の開発経験
酸化セリウム（CeO₂）
酸化シリカ（SiO₂）
酸化アルミナ（Al₂O₃）
・ラボ開発だけでなく、量産化（Scale-up）や製造プロセス改善の経験
◆歓迎条件
・CMP用研磨粒子（Abrasive）の設計・開発経験
・ナノ粒子の粒径制御・分散技術・表面改質に関する知識
・半導体CMPスラリーの開発経験
・RCA（Root Cause Analysis）を用いた品質改善・トラブルシューティング経験
・技術リーダーまたはプロジェクトリーダーとして開発を推進した経験
年齢：不問
学歴：修士以上
語学：中国語不問
・材料工学、化学、無機化学、ナノ材料などの博士号取得者
（実務経験が豊富な方は修士・学士も相談可能）
・半導体CMP材料またはCMPスラリーに関する研究開発経験5年以上
・無機ナノ粒子の合成・開発経験
・以下いずれかの材料の開発経験
酸化セリウム（CeO₂）
酸化シリカ（SiO₂）
酸化アルミナ（Al₂O₃）
・ラボ開発だけでなく、量産化（Scale-up）や製造プロセス改善の経験
◆歓迎条件
・CMP用研磨粒子（Abrasive）の設計・開発経験
・ナノ粒子の粒径制御・分散技術・表面改質に関する知識
・半導体CMPスラリーの開発経験
・RCA（Root Cause Analysis）を用いた品質改善・トラブルシューティング経験
・技術リーダーまたはプロジェクトリーダーとして開発を推進した経験
年齢：不問
学歴：修士以上
語学：中国語不問
求人番号
CHN26-08-13PS2
